Upload
nicolae-brinza
View
230
Download
0
Embed Size (px)
DESCRIPTION
hgffjfjf
Citation preview
Comunicatii optice
.0
,04
,
,
0
0
0
Hdiv
Ediv
t
HErot
Et
EHrot
)(
0
trkieEE
1нм=10–9м =10–7см=10–3 мкм.
Clasif. Material de
bazâ, %
Impuritâți, %
A1 99,9 0,1
B2 99,99 0,01
B3 99,999 0,001
B4 99,9999 0,0001
C5 99,99999 0,00001
... .... ....
C10 99,99.... 10-10
PROPRIETĂȚILE CUARȚULUI
Denumirematerialului
Material debazâ,%
AdausuAl2O3,%
Ipurit.N2O,%
MgO,CaO,%
Temperat.ToC
Quarț-
SiO2,pur
0,998 0,002 ≥1710
Sticlâ
Vicori
0,96 0,03 0,01 ~700
Sticlâ
Pirecs
0,8 0,14 0,02 0,04 ~500
(SiO2+im.(nâsip))+H2→(SiH4+imp.(silan subst.licidâ)) +O2 ↑+OH↑.
(SiO2+im.(nâsip))+HCl→(SiCl4+im.(subst.licidâ)) +O2 ↑+OH↑.
SiCl4 ↑ + 2H2+O2 ↑ = SiO2 + 2H2 ↑ + 2Cl2 ↑
GeCl4 ↑ + 2H2 +O2 ↑ = GeO2 + 2H2 ↑ + 2Cl2
2POCl3 ↑ +3H2O ↑ = P2O5 +3H2 ↑ + 3Cl2 ↑
2BBr3 ↑ + 3H2O ↑ = B2O3 + 3H2 ↑ +3Br2 ↑
VAD-Vapor Axial Depunerii)
Modified Chemical Vapor Deposition technique (MCVD).
Schema instalatiei cu o singurâ creuzete,
Creşterea atenuării din cauza expunerii la hidrogen pentru SiO2 dopat
cu GeO2 (a), şi pentru SiO2 pur (b)
Depunerea peliculelor de SiO2
compusialtiHCSiOHOCSi .422452
22
224HSiOOSiH
22
224HSiOOSiH
Tipurile de FO
LW Technology (Cover, Appendix).PPT - 26© Copyright 1999, Agilent Technologies
Revision 1.1March 20, 2016
Basic Step-Index (SI) Fiber Design
RefractiveIndex (n)
Diameter (r)
Cladding
Primary coating(e.g., soft plastic)
Core
1.4801.460
• Most common designs: 100/140 or 200/280 m• Plastic optical fiber (POF):0.1 - 3 mm , core 80 to 99%
140 m
100 m
Fibre multimod Fibre monomod
Revision 1.1March 20, 2016