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A. Mesnage, G. Deniau, S. Palacin
Laboratoire de Chimie des Surfaces et Interfaces
Automobile
Alimentaire Mécanique
Introduction
2
Fonctionnalisationde surface
Introduction
3
• Spin coating
Physisorptio
nPhysisorptio
n
Interactions faibles Fragilité des revêtements
Angular velocity
ω ωω
Radial liquidflow
Air flow
EvaporationAngular velocity
ω ωω
Radial liquidflow
Air flow
EvaporationEvaporation
Rotation Séchage
• Spray coatingEmbout
Fluide atomisé
Substrat
Introduction
4
Re-
+N2 R R●
AAAAAA
Monomère
A
• Polymérisations amorcées à partirde la surface (grafting from)
• Electropolymérisation de sels d’aryldiazonium
Plusieurs étapesTemps et température élevés
Revêtement type polyaryleSubstrats conducteurs/SCM. Baum et al., Macromolecules, 35 (2002), 610
T. Matrab et al., Langmuir, 21 (2005), 4686D. Bélanger et al., Chem. Soc. Rev., 40 (2011), 3995
ChimisorptionChimisorption
Electrode
Electrode
Substrat
Vapeurs ou gaz organiques
Pompage
• Polymérisation plasma
Introduction
5
Introduction
5
6
• Electrogreffage cathodique
278 280 282 284 286 288 290 292 294
800
1000
1200
1400
-COO-
-C-O-R--CN-C-Ni-
-(CH2)-
CPS
Énergie de liaison (eV)
-CONH2
Mécanisme anioniqueLimité en termes de monomèreSubstrats conducteurs ou SC
Voltampérométrie cyclique
Solvant organique aprotique (CH3CN)(boite à gants)
H3C
HH
R
H
CH3
H
R
H
CH3
H
R●
Radical-anionAmorçage
H3C
HH
R
H
CH3
HR
H
HH
R
H3C R
+
H3C
HH
R Polymérisation en solutionPolymérisation en solution
Polymérisation en surface
Polymérisation en surface
+
R
S. Palacin et al., ChemPhysChem, 5 (2004), 1469
Introduction
7
Introduction
Electrogreffage de sels d’aryldiazonium
7
Introduction
7
Introduction
Electrogreffage de sels d’aryldiazonium
Introduction
8
• Surface Electroiniated Emulsion Polymerization SEEP
Voltampérométrie cyclique
Solution acide aqueuse (H2SO4)
Tensioactif (e.g SDS)
N2+
R
+ +R’
Limité aux substrats
conducteurs et SC
G. Deniau et al., Chem Mater., 18 (2006), 5428L. Tessier et al., Chem. Mater., 21 (2009), 4261
Introduction
Electrogreffage de sels
d’aryldiazonium
9
Activation redox
=
GF - Principe
10
N2+
R
Sel de diazonium
+
Substrat
+R
Monomère Vinylique
Substrat + Film Organique
Solvant
Une étape Température ambiante Pression Atmosphérique Solution Aqueuse Pas de source externe d’énergie Choix des fonctions de surface – nouvelles propriétés Greffage Covalent Tout type de matériaux
Agent réducteur
Agent réducteur
GF - Type de substrats
11
Ni
Zn PtInox
Ti
AuC
Si/Au
Al
Surfaces
conductricesSurfaces
conductrices
Fibre de carbone
NBDT/Fer/AA
X. T. Le et al., Sep. Purif. Technol., 69 (2009), 135
GF - Type de substrats
12V. Mévellec et al., Chem. Mater., 19 (2007), 6323
Verre Teflon® Caoutchouc Cellulose
NBDT/Fer/BuMA
20° 84°
Surfaces
isolantesSurfaces
isolantes
NBDT/Fer/AA
110° 52°
Verre
Teflon
N2+
NO2
Méthodologie
13
N2+
R
Sel de diazonium
+
Substrat
+R
Monomère Vinylique
Substrat + Film Organique
H2O
Agent réducteur
Agent réducteur
Au (40 – 200 nm)Cr (2 - 20 nm)Verre
Greffage par voie redox
O O
OHHO
HO
HO H
Greffage spontané
GraftfastT
M
, BF4-
H2O, EtOH, acétoneDMF US 5min
17
0,046 M
I. Greffage spontané
II. Greffage par voie redox
III. Procédé GraftfastTM
IV. Applications
N2+
NO2
+
H2O
PrincipeI. Greffage spontané
15
Potentiel StandardE° (V)
Zn2+ Zn
Cu2+ Cu
Ni2+ Ni
Fe2+ Fe
-0,34
-0,26
-0,44
-0,76
NO2-Φ-N2+ NO2-Φ•
0,6
Dediazotation par transfert d’électron
R+N2 R.
R
R
R
R
R
R
R
R
R.R. + n H2
• Activation par le substrat métallique
• Sur matériaux carbonés
• Sur substrat d’or
F. Barrière et al., J. Solid State. Electr., 12 (2008), 1231
Au+ Au Pt2+ Pt
Ag+ Ag
1,7
1,18
0,8
Milieu aqueux ou organiquePlusieurs sels de diazonium
Caractérisation des films
16
N
NO2
NH2
NO2
N NO2
N N
NO2
N
N
2000 1900 1800 1700 1600 1500 1400 13000,9970
0,9975
0,9980
0,9985
0,9990
0,9995
1,0000
Tra
nsm
itta
nce
Nombre d’onde (cm-1)
C=C
(1600 cm-1)
sNO2
(1350 cm-1)
asNO2
(1530 cm-1)
410 408 406 404 402 400 398 396 39414800
15000
15200
15400
15600
15800
CPS
Energie de liaison (eV)
NO2
N=N/NH2
Au-NN 1s
I. Greffage spontané
Mécanisme ?
17408 406 404 402 400 398 396 394
16500
17000
17500
18000
CPS
Energie de liaison (eV)
N 1s
-18°CNoir
Ta
Lumière
Au-NNH2NO2 N=N
NH3+
I. Greffage spontané
R+N2
R. R+
+ Nu-
RN
NNu
h+ e-
Conclusion partielle
18
NN NO2
N N
NO2
N NO2N
N NO2N
N NO2N
NN NO2
Epaisseurs limitées
Revêtement de type polyaryles
I. Greffage spontané
NN NO2
NN NO2
22
I. Greffage spontané
II. Greffage par voie redox
III. Procédé GraftfastTM
IV. Applications
N2+
NO2
+
H2O
Acide ascorbique
Acide ascorbique
PrincipeII. Greffage par voie redox
20
Potentiel StandardE° (V)
Dha VC
Fe2+ Fe
0,4
-0,44
NO2-Φ-N2+ NO2-Φ•0,6
Au+ Au Pt2+ Pt
Ag+ Ag
1,7
1,18
0,8
N2+
NO2
Sel de diazonium
+
SubstratSubstrat
Film Organique
H2O
Acide ascorbique
Acide ascorbique
Etude des solutions + des surfaces
Mécanisme de greffage sur les substrats
OO
OO
HO
HO
OO
HO
HO
HO OH
Caractérisation des films
21
2000 1900 1800 1700 1600 1500 1400 1300 12000,9875
0,9900
0,9925
0,9950
0,9975
1,0000
1/10= 1/5
Tra
nsm
itta
nce
Nombre d’onde (cm-1)
1 asNO2
(1530 cm-1)
sNO2
(1350 cm-1)
C=C
(1600 cm-1)
[VC][NBDT] 410 408 406 404 402 400 398 396 394
15400
15600
15800
16000
16200
16400
CPS
Energie de liaison (eV)
NO2
N=N
NH2
Au-N
N1s
N
NO2
NH2
NO2
N NO2
N N
NO2
N
N
II. Greffage par voie redox
Mécanisme radicalaire
22
O2N N N+
MNP – spin trap10mM (excès)
NBDT2mM
Acide Ascorbique0,2mM
A. Mesnage et al., Chem. Mater., 22 (2010), 6229
OO
HO
HO
HO OH
1 mTesla
1 mTesla
0 10 20 30 40 50 60 70 80 90
0
2
4
6
8
10
12
14
16
18
20
Ad
duit
de s
pin
(m
ol/L)
1/10 1/5= 1/2 3/4 1
Temps (min)
10 -5x
[VC]
[NBDT]
RPE
II. Greffage par voie redox
S. Esnouf
O O
HO
HO
O OH-+
O O
HO
HO
O OHN
N
NO2
(Z)O2N N N+
(E)(E)
200 250 300 350 400 450 500 5500,0
0,2
0,4
0,6
0,8
Abso
rbance
Longueur d’onde (nm)
Avant VC t~0 t=10' t=20' t=30' t=40' t=50' t=60'
258 nm
354 nm216 nm
312 nm
Ratio 1
240 260 280 300 320 340 360 3800,0
0,2
0,4
0,6
0,8260 nm
Ab
sorb
ance
Longueur d’onde (nm)
344 - 348 nm
240 260 280 300 320 340 360 3800,0
0,2
0,4
0,6
0,8
350 nm
Ab
sorb
ance
Longueur d’onde (nm)
291nm260 nmRatio 1 – H2O Ratio 1 – H2SO4
Diazoether
OO
HO
HO
O OH-
O2N N N+
+
UV-visible
23
II. Greffage par voie redox
05’
N2+
NO2
, ClO4-
OO
HO
HO
HO OH
+
H2OIn
ten
sité
(%
)
Ratio 1/10
21
3
Diazoether
24
N2+ NO22ClO4
-,
ESI-MS
Diazoether [VC]/[NBDP]
II. Greffage par voie redox
D. Lebeau
Inte
nsi
té (
%)
Ratio 113
1
2
3
ClO4‑
Dédiazotation homolytique
25
Origine des radicaux – Mécanisme de formation
+ D
R
N NR
N
N
D
R
N
N
+ D.
.+ N2 + D
R . .
Mécanisme par sphère interne(ex : OH-)
Mécanisme par sphère externe(ex : I- et H2PO2
-)
II. Greffage par voie redox
+
+
Dédiazotation homolytique
26
Origine des radicaux (dédiazotation homolytique)
Mécanisme par sphère interne
R N2 +
OO
HO
HO
O OH
OO
HO
HO
O OHN
NR (E)
(Z)
OO
HO
HO
O OHN
N
R
R + +N2.O
O
HO
HO
O OH.
II. Greffage par voie redox
Conclusion partielle
27
Croissance des films
N RN
. R
N RN
. R
. RR
NN R
R.R
NN
R
R
N N
R
R
R
R
N N
R
Limité aux revêtements de type polyaryles
II. Greffage par voie redox
31
I. Greffage spontané
II. Greffage par voie redox
III. Procédé GraftfastTM
IV. Applications
N2+
NO2
+ +R
H2O
Acide ascorbique
Acide ascorbique
4000 3600 3200 2800 2400 2000 1600 1200 800
0,92
0,94
0,96
0,98
1,00
Tra
nsm
itta
nce (%
)
Nombre d'onde (cm-1)4000 3600 3200 2800 2400 2000 1600 1200 800
0,80
0,82
0,84
0,86
0,88
0,90
0,92
0,94
0,96
0,98
1,00
1,02
B
A
Composition chimique - IR
29
PHEMA (GraftfastTM)
PolymèreCommerci
al
Nombre d’onde (cm-1)
Tra
nsm
itta
nce
(%
)III. Procédé GraftfastTM
CH3
OO
CH2C
OH
Poly(hydroxyethyl methacrylate)PHEMA
n
C=O
(1730 cm-
1)
Composition chimique - IR
30
Présence de groupements NITROPHENYLES
4000 3600 3200 2800 2400 2000 1600 1200 800
0,92
0,94
0,96
0,98
1,00
Transm
ittance (%
)
Nombre d'onde (cm-1)4000 3600 3200 2800 2400 2000 1600 1200 800
0,80
0,82
0,84
0,86
0,88
0,90
0,92
0,94
0,96
0,98
1,00
1,02
B
A
1800 1600 1400
PHEMA (GraftfastTM)
PolymèreCommerci
al
NO2
III. Procédé GraftfastTM
1200 1000 800 600 400 200 00
50000
100000
150000
200000
250000
300000
C
PS
Energie de liaison (eV)
Composition chimique - XPS
31
III. Procédé GraftfastTM
O 1s
C 1s
N 1s
Au 4f
Composition chimique - XPS
32
C1s
292 290 288 286 284 282
4000
5000
6000
7000
8000
9000
10000
11000
12000C-C/C-H
CPS
Energie de liaison (eV)
O-C=O
C-O/C-N
538 536 534 532 530 528
7000
8000
9000
10000
11000
12000
13000
14000
15000
16000
O-C=OC-O
O-C=OO 1s
CPS
Energie de liaison (eV)410 408 406 404 402 400 398 396
5850
5900
5950
6000
6050
6100
6150
6200
6250
6300
CPS
Energie de liaison (eV)
N 1s
NH2
N=N
Au-N
NO2
H2C C
CH3
COO
H2C
CH2
OHn
H2C
COO
H2C
CH2
OH
C
CH3
nNO2
N NNO2
NO2
NH2N
N
III. Procédé GraftfastTM
Structure moléculaire
33
Polymère
Au3+
Cs+
Fragments ionisés
Au
TOF-SIMSAlchimer
III. Procédé GraftfastTM
Polymère
Structure moléculaire
33
Au3+
Cs+
Fragments ionisés
0
10
20
30
40
50
60
70
80
90
100
Inte
nsit
é n
orm
alisée
0 100 200 300 400 500 600 700 800 900 1000Temps (s)
Au
Alchimer
III. Procédé GraftfastTM
TOF-SIMS
SubstratSubstrat
0 100 200 300 400
20
40
60
80
100
Inte
nsité
Temps (s)
Structure moléculaire
34
PNPPNP
Temps (s)
Inte
nsi
té N
orm
alis
ée
NO2
NO2
NO2
NO2
NO2
NO2
NO2
NO2
H2C C
CH3
COO
H2C
CH2
OH
N+
O-
O
C
NitrophénylePHEMA
CNO-C4H5O2
-
Au2
Substrat : Au2
Nitrophényle : CNO-
Polymère : C4H5O2-
III. Procédé GraftfastTM
Mécanisme
35
Sous-couche de polyphénylène
R
R
R
R
R
R
R
R.
RR. + n H2
Réduction du sel de diazonium en solution ou sur la surface
R+N2
R.Red + Ox + N2 +
III. Procédé GraftfastTM
SubstratSubstrat
0 100 200 300 400
20
40
60
80
100
Inte
nsité
Temps (s)
Structure moléculaire
36Temps (s)
Inte
nsi
té N
orm
alis
ée
III. Procédé GraftfastTM
PNPPNPPHEMAPHEMA
NO2
NO2
NO2
NO2
NO2
NO2
NO2
NO2
Substrat : Au2
Nitrophényle : CNO-
Polymère : C4H5O2-
Mécanisme
37
Initiation Propagation
R
. .R R .
R.
R
.
R.
R
.
R
R
R
R
R
R
R
R
R
R
R
R
R
R
R
.
R
.
R.R
.
R.
III. Procédé GraftfastTM
c)
b)
1mT
a) Spectre RPE global
1 mT
Grafting to ?
38
SubstratEmbout doré
Solution GraftfastTM
z
292 290 288 286 284 282
0
1000
2000
3000
4000
5000
6000
7000
8000
9000C 1s C-C/C-H
C-O/C-N
O-C=O
CPS
Energie de liaison (eV)
v = 0
v = 1000 rpm
Substrat tournant
Grafting to
III. Procédé GraftfastTM
Aire divisée par 3
Conclusion partielle
39
Au
Sous-couche riche en
groupements nitrophényles
Nœuds aryles
Chaînes de
polymère
R
R
R
R
R
R
R
R
R.R. + n H2
R.
R.
R.
R
.
R
R
R
R
R
R
R
R
R
R
R
R
R
RR
.
R
.
R.R
.
R.
Grafting to
R.
.R R .
III. Procédé GraftfastTM
44
I. Greffage spontané
II. Greffage par voie redox
III. Procédé GraftfastTM
IV. Applications
A. Garcia et al., ACS Appl. Mater. Interfaces , 2 (2010), 1177A. Garcia et al., Adv. Mater., (2011), soumis
Exemples d’application
41
Matériaux composites
Métallisationdes
polymères
X. T. Le et al., Electrochim. Acta, 54 (2009) 6089X. T. Le et al., Sep. Purif. Technol., 69 (2009), 135
Traitement des
effluents
IV. Applications
Fibre de
carbone NTC enrob
és
La majorité des produits commerciaux
Crème solaireProtection contre le veillissement de la peau, l’apparition des rides, contre les cancers de la peau…
• Absorption des radiations UVA (320-400 nm) et UVB (290-320 nm)
• Filtres minéraux Filtres chimiques
Sans protection Crème solaire UVB
Crème solaire à large spectre
Epiderme
Derme
Zone sous-cutanée
Enjeux
42
IV. Applications
Nanoparticules à base de TiO2
Améliorer la stabilité de la dispersion des NPsCrème = émulsion polymère hydrophile et hydrophobe
Limiter leur possible photoactivité
Immobilisation de molécules d’intérêt (hydratation, antioxydant)
• Transparence
Intérêt du greffage
IV. Applications
P. Simon, Chem. Mater., 22 (2010), 370443
Méthodologie
44
IV. Applications
TiO2 TiO2PH EMA
OO
HO
HO
HO OH
O2N N N+
1 eq 1/10 eq 15 eq
Anatase dopé Nϕ = 9,6 ± 3 nm
0,8 mg/mL
Ajustements
• Sonde US avant et pendant greffage
• Arrêt réaction : dilution
• Purification : Centrifugation & Séchage
NBDT VC HEMA
CEA/SPAM/EDNA
2000 1800 1600 1400 1200 10000,96
0,97
0,98
0,99
1,00
1350 cm-1
1525 cm-1
1640 cm-1
1717 cm-1
Tra
nsm
itta
nce
Nombre d’onde (cm-1)
Greffage chimique
4000 3500 3000 2500 2000 1500 1000
0,65
0,70
0,75
0,80
0,85
0,90
0,95
1,00
Tra
nsm
itta
nce
Nombre d’onde (cm-1)
TiO2 dopé NGF-TiO2 dopé N
OH
(3340 cm-
1)
Greffage réussi des NPs
Courbe ATG (sous argon)
200 300 400 500 600 70094
95
96
97
98
99
100
GF-TiO2
Pert
e d
e m
ass
e (
%)
Temperature (°C)
TiO2
~ 4 wt %
45
Revêtement de PHEMA
Spectre IR & XPS
IV. Applications
0 10 20 30 40 500
10
20
30
40
50
60
70
80
90
100
haut (9 mm)
milieu (6 mm)
GF- TiO2 dopé N
Tra
nsm
issi
on (
%)
Temps (h)
TiO2 dopé N
bas (3 mm)
Greffage chimique
Morphologie relativement inchangée des NPs
Images MET
Turbidimètre
Stabilité de la dispersion des NPs dans H2O semble améliorée
46
IV. Applications
9 mm6 mm3 mm
Conclusion générale
47
Application
Mécanismes
• Greffage spontané sur or : mécanisme cationique (NO2-φ-N2+)
• Greffage par voie redox :
Optimisation du procédé : ratio [Red]/[Diazo]
• GraftfastTM :
radicalairediazoether – mécanisme sphère interne
radicalairedouble rôle des radicaux aryles grafting to
N2+
R
+ +R
H2O
Agent réducteur
Agent réducteur
• 1ère fois avec GF : greffage NPs de TiO2 en milieu aqueux
• Amélioration de la stabilité de leur dispersion dans H2O
Perspectives
48
• Substrats isolants
• Meilleure compréhension du système en « one pot »
• Monomère non soluble dans l’eau (émulsion)
• Sels de diazonium non solubles dans H2O (cyclodextrine)
• …
ABS
NH2
R
N2+
R
53
Merci de votre attention